电解抛光是什么原理

电解抛光是什么原理

电解抛光原理：电解抛光是通过对电流密度，溶液粘度几温度的控制，使金属在电解液中选择性溶解，即低凹处进入钝态而凸起部位活性溶解。结合溶液光亮剂和阳极极化作用，达到电化学整平抛光的目的。

电解抛光过程：1、采用机械抛光打磨设备及工件表面的氧化皮和各种表面缺陷，使被处理表面初步达到一定的粗糙度；

2、再用电解的方式进一步提高被处理表面的光洁度。机械抛光是宏观消除表面的氧化皮及各种缺陷，而电解抛光是一个微观整平的过程，进一步提高表面的物化性能。

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电解抛光
电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步： (1)宏观整平：溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ralμm。 (2)微光平整： 阳极极化，表面光亮度提高，Ralμm。

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